建模方式：可视化建模。

应用方向：离子束溅射，材料表面处理。

特点：增加磁场后离子束运动方向发生改变。

模型名称：ionBeamSputtering.sdf

模型几何&设置：

计算域（氩离子从左侧进入，向右运动轰击铜靶）

算例1（基准，无磁场）：

粒子分布（红色：氩离子，绿色：铜原子）

电势分布

算例2（垂直于平面的磁场Bz=0.1T，即方向向外）：

粒子分布（红色：氩离子，绿色：铜原子）

电势分布

算例3（垂直于平面的磁场Bz=-0.1T，，即方向向里）：

粒子分布（红色：氩离子，绿色：铜原子）

电势分布

算例4（平面内的磁场Bx=1.0T，即方向向右）：

粒子分布（红色：氩离子，绿色：铜原子）

电势分布

结论：

1.通过施加垂直于平面的磁场，使得离子束的运动轨迹发生偏转，可通过调节磁场来调节离子束轰击的区域。

2.无磁场时，离子束中的离子因为库伦力相互排斥，导致离子束逐渐发散。

3.通过施加与离子束运动方向平行的磁场，可约束离子的径向运动，从而抑制了离子束因为库伦力的扩散，使得离子束看起来更加笔直，轰击区域更加聚焦。